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- 2英寸单片W120型设备
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- 主要技术参数:1、生长晶片尺寸:1.25英寸、2英寸2、生长温度控制范围:300℃-1250℃3、最大生长速度:3um/小时4、系统压力、真
- 2018-06-05 16:58 立即抢批
- GaN-MOCVD设备
- 面议
- 主要技术参数: 1、生长晶片尺寸:2英寸3片2、生长温度控制范围:300℃-1250℃3、最大生长速度:3um/小时4、系统压力、真空度:
- 2018-06-05 16:57 立即抢批
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