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LPCVD化学气相沉积设备
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简单描述： ★设备用途：Si3N4、Poly-Si、SiO2薄膜生长的薄膜制备。将原材料气体（或者液态源气化TEOS）热能激活发生化学应用而
2018-06-05 11:39 立即抢批

全自动扩散炉
面议
功能特点：扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退
2018-06-05 11:38 立即抢批

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