溅射镀膜贵金属靶材
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溅射镀膜贵金属靶材
更新时间:2021-04-14 16:59 免费会员
艾拓斯新材料科技(苏州)有限公司
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高纯磁控溅射贵金属钯(Pd)镀膜靶材及铂合金,钯粒,钯板

贵金属靶产品总述:

随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展,我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度,通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程,我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。


稀贵重金属名称:

铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶

牌号规格:

Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1

用途

主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。


贵金属磁控溅射沉积镀膜钯靶材Palladium (Pd) Targets

规格尺寸:

形状

圆形、方形

尺寸

按客户要求定制加工

厚度

按客户要求定制

纯度

≥4N



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