单晶硅金刚石研磨液 金刚石研磨液 金刚石单晶研磨液研磨抛光液

单晶硅金刚石研磨液 产品详情：●精选优质金刚石微粉颗粒形状;●严格的粒度控制;●针对不同应用的独特配方设计；●加工使用时散

供应 金刚石研磨液 锗片金刚石研磨液 金刚石多晶研磨液

锗片金刚石研磨液 产品详情： 金刚石多晶研磨液利用多晶金刚石良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤

半导体专用研磨液 半导体抛光液 钻石抛光液 二氧化硅抛光液

半导体金刚石研磨液产品详情： 金刚石多晶研磨液利用多晶金刚石良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划

供应 半导体专用阻尼布 日本进口阻尼布 定制抛光皮

半导体专用阻尼布产品详情：外 观黑色形 状圆形厚 度T1.3、T1.0、T0.8、T0.5mm硬 度65-69（邵氏硬度）压 槽13*13、2*2、5*5、10*

半导体专用抛光垫 抛光皮 日本阻尼布抛光皮SUBA600

半导体专用抛光垫CL-600（合成纤维聚合物抛光垫）产品详情：外 观白　色形 状圆　形厚 度T1.3mm硬 度78±2 Shore-A刻 槽方槽18*1

半导体抛光液 蓝宝石抛光液 蓝宝石窗口片抛光液 表镜片抛光液

半导体专用抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、

砷化镓抛光液 光学晶体抛光液 精抛液 二氧化硅抛光液

砷化镓抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化

创力工厂直供 抛光液 磷化铟抛光液

磷化铟抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化

半导体抛光液

骏驰新材料生产的抛光液是以胶体二氧化硅为磨料，具有抛光速率高、表面质量好等特点，抛光后表面平均粗糙度小于0.2 nm。适用于：

半导体抛光皮，硅抛光皮，阻尼布，精抛皮

半导体专用阻尼布产品详情：外 观黑色形 状圆形厚 度T1.3、T1.0、T0.8、T0.5mm硬 度65-69（邵氏硬度）压 槽13*13、2*2、5*5、10*

氧化锆抛光液ZRF-C|硒化锌|氟化镁|氟化钙|红外光学抛光

硒化锌抛光|氟化镁抛光|氟化钙抛光|红外光学抛光|晶泽光学|氧化锆ZRF抛光液系列-适用FCD1、FCD505、FCD515、FCD100、FK61、S-PHM

氧化锆抛光液ZRF-A|环球ZOX-N|软玻璃抛光|晶泽光学

氧化锆抛光液ZRF|氧化铈抛光粉|软玻璃抛光|晶泽光学|氧化锆ZRF抛光液系列-适用FCD1、FCD505、FCD515、FCD100、FK61、S-PHM52等，

石英 片

K9、石英晶圆

超光滑抛光

氧化铝粉

尼康石英

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