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首页»供应»半导体 » 半导体制造设备 » 清洗机»AP-1000等离子清洗机

AP-1000等离子清洗机

  • 面议
  • 起订量:1台
  • 可售数量:1000台
  • 发布时间:2018-11-27产品供应结束倒计时:

所在地:北京

企业类型:企业单位

公司地址:北京市海淀区厂西门路2号吉友大厦4015室

联系人:冯先生 ( )
手机:13911457960
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企业信息
  • 北京锐峰先科技术有限公司
  • [免费会员1年] 信用度:0级
  • 会员级别:普通会员 第1年 信用度:0级
  • 店铺等级:
  • 联系人:冯先生(先生) 
  • 已缴纳 0.00 元保证金
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  • 会员状态:[当前离线] [加为商友] [发送信件]
  • 注册资金:200万人民币
  • 企业规模:1-49人
  • 企业类型:企业单位
  • 经营模式:贸易商,服务商
  • 经营范围:半导体设备、SMT设备、LCD设备
  • 产品详情
  • 联系方式
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  • 品牌:March
  • 所属分类:半导体 » 半导体制造设备 » 清洗机
  • 计量单位:台
  • 最小起订量:1台
  • 供货总量:1000台
  • 发货期限:自买家付款之日起60天内发货

AP-1000等离子清洗机

特点和优势
* 采用PLC控制,触摸屏式人机界面,实时工艺监控
* 灵活的电极组合适用于不同类型的产品载具实现Direct或DownStream模式等离子工艺
* 具有自动阻抗匹配的13.56MHz射频电源保证工艺的重复性
* 专有软件控制系统可记录工艺和生产数据,便于统计和工艺控制

苛刻生产环境下均匀的等离子体处理技术

诺信MARCH的AP-1000等离子清洗机系统专为满足高性能制造环境下24小时操作严格要求而设计,可实现均匀等离子体处理,安全稳定且操作简便。
Apl000型采用紧凑式设计,占地面积小,真空泵、腔体和电气控制件以及13.56MHZ射频电源都整合在设备内部,设备前部可方便完成操作维护,带有脚轮的真空泵装置方便检修。
等离子腔采用美规1 1标号的不锈钢和铝支架制造,坚久耐用。腔内可调整的电极组根据不同的产品载具,包括料盒、托盘、晶圆、晶舟等可灵活组合配置。


提高了生产率,满足大容量生产力要求

搭配HTP(高产能)电极的AP-1000等离子系统是综合了March特有的电极设计和AP-1000的高可靠性及其优良的工艺性。AP-1000 HTP充分利用了射频等离子产生的活性离子,不仅缩短工艺时间而且提高处理均匀性。
AP-1000HTP配备4路气体流量控制器,因工艺需求可选周不同的气体包括氩气、氢气和氦气等。
开槽式料盒可竖放于工艺腔内,通常每个料盒最少可放置20条引线框,根据料盒尺寸大小,一炉可最多放置12个料盒。

规格

外壳尺寸
W(宽)xD(长)xH(高)一占地面积      0.68米宽x 1.127米长x1.89米高
净重                             485公斤(1069磅)
设备间隙                         右边、左边一至少153毫米,前面一至少680毫米,后面一至少483毫米

处理腔体
最大容量                         127升
多种电极配置                     电源一接地,接地一电源,电源一电源
电极插槽数                       14
电极间距                         25.4毫米(600W)50.8毫米(1000W)

电极
电源电极面积                     349毫米宽x 425毫米长
多孔接地电极面积                 384毫米宽x 425毫米长
悬浮电极面积                     349毫米宽x 425毫米长

射频功率
标配电源                         600w
选配电源                         1000w
频率                             13.56MHZ

气体控制
流量计                           10、25、50、100、250、500、1000、2000或5000标准毫升/分钟
MFC最多可配置数                  4

控制和接口
软件控制                          PLC控制,配有触摸屏界面
远程接口                          PlasmaLIKIK、Processlink、SECS/GEM接口

真空泵
标配油泵                         1500升/分钟,配有氧油除雾器
选配油泵                         1500升/分钟,配育防锈油除雾器
选配干泵                         1784升/分钟
干泵净化氮气用量                 14升/分钟
干泵冷却水用量                   5升/分钟

设施
电源                             220伏,25安,50/60赫兹,3相,8 AWG,4线;380伏,25安,50/60赫兹,3相,8AWG,5线
工艺气体管径及接口               外径6.35毫米(0.25英寸)Swagelok管
工艺气体纯度                     实验室或电子等级
工艺气体压力                     最小0.069兆帕至最大0.103兆帕,可调节
净化气体管径及接口               外径6.35毫米(0.25英寸)Swagelok管
净化气体纯度                     实验室或电子等级N2/CDA
净化气体压力                     最小0.2兆帕至最大0.69兆帕,可调节
气动阀接口及管径                 外径6.35毫米(0.25英寸)Swagelok管
压缩空气纯度                     CDA、无油、露点温度≤7℃,粒径<5微米
压缩空气压力                     最小0.345兆帕至最大0.689兆帕,可调节
排放                             外径38毫米(1.5英寸)管道法兰

合规性
半导体                           通过SEMI S2/S8【环境、健康和安全/人体工学)认证
国际                             通过CE认证

辅助设备
气体发生器                       氮气、氢气(需要其他不可选硬件)
设施                             冷却器、洗涤器



关键词:AP-1000等离子清洗机,供应,半导体,半导体制造设备,清洗机

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