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LPCVD化学气相沉积设备

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  • 可售数量:0
  • 发布时间:2018-06-05产品供应时间:长期有效

所在地:山东青岛市

企业类型:企业单位

公司地址:青岛市城阳区流亭工业园

联系人:朱先生 ( )
手机:13805320424
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企业信息
  • 青岛育豪微电子设备有限公司
  • [免费会员1年] 信用度:0级
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  • 联系人:朱先生(先生) 
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  • 注册资金:1000万人民币
  • 企业类型:企业单位
  • 经营模式:制造商,服务商
  • 经营范围:生产、销售及研发:自动化微电子设备;机械设备维修及安装(不含特种设备);批发、零售:五金机电(不含小轿车)、建筑装饰材料、化工产品(不含危险化学品)、金属制品(不含稀贵金属)、电子产品、塑胶制品、家用电器;货物进出口、技术进出口(法律、行政法规禁止的项目除外,法律、行政法规限制的项目取得许可证方可经营)。 (依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)。
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  • 供货总量(库存):0
  • 发货期限:自行协商

简单描述:
★设备用途:Si3N4、Poly-Si、SiO2薄膜生长的薄膜制备。

将原材料气体(或者液态源气化TEOS)热能激活发生化学应用而在基片表面生成固体薄膜。在低压下进行,由于气压低,气体分子平均自由程大,使生长的薄膜均匀性好,采用竖直放片,装片量大,适合于工业化生产。一次设定自动完成,可另配特气柜。真空系统可选配进口机组。
★设备特点:
1. 计算机自动控制“工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力等程序;
2. 闭环控制,采用进口压力控制系统,稳定性高。
3. 管件、阀门采用进口耐腐蚀不锈钢,气路气密性长期可靠。
4. 工艺管、真空系统密封可靠安全指标高。
5. 反应气体分子送气和族射送气,避免气相反应产生
6. 报警功能及安全互锁装置设置合理,设备安全性能指标高。
7. 控制面板有良好的人机界面,灵活的工艺性能,使用更加方便。

关键词:LPCVD化学气相沉积设备,供应,

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