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半导体专用抛光垫
颜色白色型号半导体专用厚度T1.3mm硬度75-78邵氏硬度原材料日本进口半导体专用抛光垫CL-600（合成纤维聚合物抛光垫）产品详情：
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2019-10-18 10:45
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半导体专用阻尼布
颜色黑色型号半导体专用厚度T0.5/T0.8/T1.0/T1.3mm硬度65-69邵氏硬度原材料日本进口包装规格常规包装半导体专用阻尼布产品详情：
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2019-10-18 10:45
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半导体金刚石研磨液
颜色黑色型号半导体专用介质水性/中性/油性粒度30纳米-9微米包装规格500ML/瓶半导体金刚石研磨液产品详情： 金刚石多晶研磨液利
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2019-10-18 10:45
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半导体抛光液
颜色乳白色型号半导体专用介质水溶性粒度90-110纳米包装规格25KG/桶半导体专用抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可
0.10/KG0KG起订
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2019-10-18 10:45
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半导体专用抛光液
主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶
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2019-10-23 10:40
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半导体专用钻石液
半导体专用钻石液应用范围：专用针对半导体、硅片、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓等半导体材料研磨抛光。注意事项：1.请使
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2019-10-16 16:00
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2019-09-17 11:11
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2019-09-11 09:11
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1000.00/KG100KG起订
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2019-08-05 11:52
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钛铝靶材、锌铝靶材、
钛铝管 Rotatable TiAl Alloy Sputtering Target应用: 用于制作陶瓷钛铝合金膜，主要用于装饰镀和工具镀,半导体电子产品化学成分
100.00/KG5KG起订
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2019-07-25 14:37
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ITO靶、靶材绑定加工
氧化铟锡靶 Rotatable ITO Sputtering Target应用: 主要用于TN，STN型液晶显示器和触摸屏，半导体电子，薄膜太阳能行业，建筑玻
1000.00/KG5KG起订
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2019-07-25 14:37
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银靶、硅锆铝靶、氧化钛靶
银靶 Rotatable Ag Sputtering Target应用: 主要用于Low-E镀膜玻璃, 薄膜太阳能行业, TFT-LCD,半导体电子产品化学成分和物理性能
1000.00/KG5KG起订
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2019-07-25 14:37
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氧化铌靶
氧化铌靶 Rotatable NbOx Sputtering Target应用: 主要用于LOW-E镀膜玻璃，薄膜太阳能电池电极膜系，TFT-LCD，半导体电子产品化
1000.00/KG50KG起订
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2019-08-05 11:52
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2019-09-18 16:56
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量产型半自动/全自动探针台
量产型半自动/全自动探针台 型号SA-6/SA-8/SA-12外形1500（长）*1700（宽）*1100(高) 重量1700kg电力需求/功率 220VAC±10V/50Hz
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2021-03-09 18:13
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2019-01-25 14:36
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2019-02-22 08:17
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30.00/m²15m²起订
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2019-02-22 08:17
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法兰式超声波振板
超声波震板的特点:1.全不锈钢结构，震板面镀硬铬加强硬度，耐酸耐碱,美观耐用2.使用优质震子，经专用震头阻抗测试仪多道检测，确
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2025-01-15 11:20
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