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首页»供应»半导体 » 半导体制造设备 » 刻蚀机»March RIE 反应离子刻蚀机

March RIE 反应离子刻蚀机

  • 面议
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  • 可售数量:1000台
  • 发布时间:2018-11-27产品供应结束倒计时:

所在地:北京

企业类型:企业单位

公司地址:北京市海淀区厂西门路2号吉友大厦4015室

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  • 品牌:March
  • 所属分类:半导体 » 半导体制造设备 » 刻蚀机
  • 计量单位:台
  • 最小起订量:1台
  • 供货总量:1000台
  • 发货期限:自买家付款之日起60天内发货

March RIE 反应离子刻蚀机
RIE 各项异性&各向同性等离子刻蚀系统


Nordson MARCH's RIE-1701 等离子系统是设计用于先进的刻蚀应用,如:失效分析时去除夹层膜材,解封装和去除介电材料,氧化物、氮化物、聚酰亚胺、硅、金属、用于MEMS/LED/IC 器件生产的III-V 和 II-VI 材料的刻蚀,环氧去除,光刻胶剥除和预处理。

紧凑、桌面型配置、负担的起的反应离子刻蚀(RIE) 系统。

Nordson MARCH 的 RIE-1701 各向异性反应离子刻蚀等离子系统是完全自包含的,仅需要最小的桌面空间。等离子刻蚀底盘,也同样是作为一个集成的安全屏蔽罩,内部包括了等离子腔体、控制电子、13.56MHz的射频发生器,以及自动调谐网络(仅仅是真空泵是位于系统之外的)。通过一个互锁门或者容易拆除的面板可以方便的进行维护。

等离子腔体是由高质量阳极化铝和优越耐久性的陶瓷治具组成的。等离子腔体能够配置6"或者8"电源电极来适应广泛的晶圆尺寸、IC封装和其它元件。
高性能等离子刻蚀用于失效分析或MEMs、LED器件生产。

等离子刻蚀能够适应广泛的工艺气体,包括:氩气、氧气、氢气/混合气体、氦气、CF4 和 SF6。标准配置为2路质量流量控制器,用于最优的气体控制,还具有两路可选气体(一共4路)。

RIE 各项异性&各向同性等离子刻蚀系统的特点和优势

触摸屏控制,图形用户界面提供实时工艺数据和反馈
13.56 MHz 射频发射器和自动调谐网络提供卓越的工艺重复性
温度控制回路集成在等离子腔体内,使得精确控制成为可能
可选的涡轮分子泵组件和蝶形阀压力控制



关键词:March RIE 反应离子刻蚀机,供应,半导体,半导体制造设备,刻蚀机

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