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March RIE 反应离子刻蚀机
March RIE 反应离子刻蚀机RIE 各项异性各向同性等离子刻蚀系统Nordson MARCH's RIE-1701 等离子系统是设计用于先进的刻蚀应用，
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2019-10-16 16:00
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FHR RIE 刻蚀设备
基片尺寸 4",6" or 8"薄膜 SiO2,SixOy,Al,etc.RIE设备典型应用领域 半导体MEMS光学
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2018-06-29 16:45
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