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2021-01-05 16:00
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高精度薄型精密双层三维对准工作台，采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构，保证了工作台的直线性和旋转精度。机
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光刻机
对准精度高，漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩模版使用寿命。曝光系统 在X、Y方向通过操作杆可实现
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光刻机
BG-401A曝光机（光刻机）主要用于中小规模集成电路、声表面波器件和其它各种半导体元器件制造工艺中的单面对准及曝光。最大兼容4
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