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2024-02-29 23:05
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供应半导体芯片所用高纯金属材料镀膜靶材
薄膜太阳能电池材料ITO AZO ZnO etc....透明电极透明导电膜ITO IWO ICO InTiO ZnO AZO GZO XZO etc.减反射膜MgF2 SiN Ti02 Nb20x
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2019-08-05 11:52
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钛铝靶材、锌铝靶材、
钛铝管 Rotatable TiAl Alloy Sputtering Target应用: 用于制作陶瓷钛铝合金膜，主要用于装饰镀和工具镀,半导体电子产品化学成分
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2019-07-25 14:37
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ITO靶、靶材绑定加工
氧化铟锡靶 Rotatable ITO Sputtering Target应用: 主要用于TN，STN型液晶显示器和触摸屏，半导体电子，薄膜太阳能行业，建筑玻
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银靶、硅锆铝靶、氧化钛靶
银靶 Rotatable Ag Sputtering Target应用: 主要用于Low-E镀膜玻璃, 薄膜太阳能行业, TFT-LCD,半导体电子产品化学成分和物理性能
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2019-07-25 14:37
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氧化铌靶
氧化铌靶 Rotatable NbOx Sputtering Target应用: 主要用于LOW-E镀膜玻璃，薄膜太阳能电池电极膜系，TFT-LCD，半导体电子产品化
1000.00/KG50KG起订
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陶瓷靶材
本事业部采用冷（等）压热烧结可以提供多种组分、高纯度、高致密度陶瓷靶材。Al2O3，BaBiO3，BaCoO3，BaCuO2，BaFe12O19，BaMnO3
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