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首页»供应»半导体 » 半导体材料/化学品 » 溅射靶材»进口ITO、ANP溅射靶材ITO颗粒镀膜

进口ITO、ANP溅射靶材ITO颗粒镀膜

  • ¥100.00元/件
  • 起订量:1件
  • 可售数量:5000件
  • 发布时间:2018-05-25产品供应时间:长期有效

所在地:江苏苏州市

企业类型:企业单位

公司地址:江苏苏州市昆山巴城镇

联系人:陈生 (市场开发 职员)
手机:13776271737
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企业信息
  • 艾拓斯新材料科技(苏州)有限公司
  • [免费会员3年] 信用度:0级
  • 会员级别:普通会员 第3年 信用度:0级
  • 店铺等级:
  • 认证类型:
  • 身份认证: 通过认证 [诚信档案]
  • 联系人:陈生(先生) 职员
  • 已缴纳 0.00 元保证金
  • 在线联系:   
  • 会员状态:[当前离线] [加为商友] [发送信件]
  • 注册资金:500万人民币
  • 企业规模:1-49人
  • 企业类型:企业单位
  • 经营模式:制造商,服务商
  • 经营范围:稀贵金属溅射靶材|高纯金属合金靶|蒸发镀膜材料|日本ITO溅射靶材|黄金靶|铂金靶|金锡合金靶|TFT-LCD平板液晶ITO靶材|功能陶瓷锂电池靶材|白银靶材|靶材键合绑定Bonding
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  • 品牌:三星 ,ANP
  • 所属分类:半导体 » 半导体材料/化学品 » 溅射靶材
  • 纯度:99.99%
  • 尺寸:任意
  • 比例:90:10 wt%
  • 计量单位:件
  • 最小起订量:1件
  • 供货总量(库存):5000件
  • 发货期限:自买家付款之日起3天内发货

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜,广泛应用于太阳能、LCDTP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式,

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多 ,高端TFT-LCDITO靶材均来自日本的东曹、日立、日矿金属JX,住友、日本能源、三井金属、韩国三星康宁、韩国ANP等公司

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt%) 其他比例以客户要求为准

相对密度: ≥99.5%(理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99%

尺寸规格:依据客户要求为准

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99%以上,主要杂质元素CuFePbSiNi分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm

2)相对密度:相对密度要求在99.5%以上,密度均匀度偏差≤0.15%

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3,

Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:120MPa

关键词:进口ITO、ANP溅射靶材ITO颗粒镀膜,供应,半导体,半导体材料/化学品,溅射靶材

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