FHR紫外臭氧清洗机

实验室及生产用超洁净清洗机 表面无碳氢化合物表面活性处理适用于 10 级洁净间许多工艺前提条件要求基片超洁净、无碳水化合物。

FHR RIE 刻蚀设备

基片尺寸 4",6" or 8"薄膜 SiO2,SixOy,Al,etc.RIE设备典型应用领域 半导体MEMS光学

PCB/FPC蚀刻机-蚀刻线

光刻机

光刻机

RIE-24000反应离子刻蚀机(带Load_Lock装置)

本设备带有进/取样室、真空锁和机械手自动送/取样片装置。主要用于平板显示中玻璃基板上 （500×400mm）刻蚀SiO2，Si3N4等。

50B化抛机

气缸加压方式，单头最大加工压力可达350KG；(可扩展）4个P.P板采用电机强制驱动方式，可独立控制转速，可以实现P.P正反转；下定

SSB200/SSB300/SSB500/SSB600

微下降晶体生长设备

HVPE晶体生长炉

光刻机

高精度薄型精密双层三维对准工作台，采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构，保证了工作台的直线性和旋转精度。机

光刻机

对准精度高，漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩模版使用寿命。曝光系统 在X、Y方向通过操作杆可实现

光刻机

BG-401A曝光机（光刻机）主要用于中小规模集成电路、声表面波器件和其它各种半导体元器件制造工艺中的单面对准及曝光。最大兼容4

纳米级光刻机

TriboLab CMP

清洗机

RIE-3反应离子刻蚀机

全自动扩散炉

功能特点：扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退